| Kommentar |
−grundlegendes Verständnis der wichtigsten Verfahren zur Modellierung, Herstellung und Charakterisierung von Dünnschichten (Halbleiter, Nichtleiter, Metallschichten) −die Prinzipien modernster Dünnschichttechnik zu erkennen und ihre Wirkungsweisen zu verstehen −Fähigkeit zur Auswahl geeigneter Fertigungsverfahren für die Realisierung von nano-, opto-, magneto- und mikro-elektronischen Strukturen −eingehende Kenntnisse und praktische Erfahrung bei Entwicklung und Optimierung von Dünnschichttechniken für neue Materialien und Nanoheterostrukturen −Einschätzung und Bewertung von Einsatzmöglichkeiten unterschiedlicher Dünnschichttechnikverfahren −Darüber hinaus können die Studierenden Trends in Dünnschichttechnik-Entwicklungen und nanoelektronischen, optoelektronischen und magnetoelektronischen Heterostrukturenherstellung analysieren und extrapolieren |
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